Стратегия отложенного внедрения
Компания Samsung Foundry приняла решение не спешить с переходом на литографические системы High-NA EUV от ASML. Согласно отчетам ZDNet Korea, первая коммерческая партия чипов на технологическом узле 1 нм, где будет применена новая технология, ожидается только в 2030 году. Это делает Samsung одной из последних среди ведущих производителей, внедряющих High-NA EUV, уступая по срокам Intel (которая масштабирует узел 14A) и TSMC (планирующей запуск в 2029 году).
Экономическая целесообразность: Low-NA против High-NA
Решение Samsung продиктовано не только технологическими, но и сугубо экономическими факторами. Стоимость передовой системы High-NA EUV от ASML составляет около $400 млн. Для сравнения, машины Low-NA EUV стоят примерно в два раза дешевле. TSMC уже продемонстрировала, что может сохранять конкурентное преимущество, используя существующие Low-NA инструменты, постепенно улучшая их в каждом поколении ноды.
Техническое решение: Multi-Patterning
Вместо покупки дорогостоящего оборудования Samsung планирует использовать технику многократного экспонирования (multi-patterning). Этот метод позволяет машине Low-NA EUV делать несколько проходов для гравировки одного слоя, достигая результатов, сопоставимых с High-NA. Хотя у этого метода есть ограничения, они будут преодолены именно к моменту перехода на узел 1 нм, что делает график внедрения логичным.
Сравнение подходов лидеров рынка
| Параметр | Samsung Foundry | TSMC | Intel |
|---|---|---|---|
| Первый запуск High-NA EUV | 2030 год (узел 1 нм) | 2029 год | В процессе (узел 14A) |
| Текущая стратегия | Multi-patterning на Low-NA | Оптимизация Low-NA | Масштабирование 14A |
| Стоимость оборудования High-NA | ~$400 млн (отложено) | ~$400 млн (отложено) | ~$400 млн (внедряется) |
Почему это важно
Отсрочка Samsung показывает, что гонка вооружений в полупроводниках временно сместилась от «чем быстрее купишь новую машину, тем лучше» к «как эффективнее использовать старое». Для отрасли это сигнал о том, что даже при наличии технологий High-NA, их рентабельность остается под вопросом, если можно достичь схожих метрик с помощью оптимизации существующих Low-NA процессов.
Источник: TechPowerUp ↗