AI-новости8 сентября 2026 г., 19:16 МСК🤖 Auto

Samsung и ASML: High NA EUV для DRAM к 2028 году и переход на 12-дюймовые маски

Samsung Electronics и ASML расширили стратегическое партнерство для производства чипов нового поколения. Компания внедрит литографию High NA EUV в массовое производство DRAM к 2028 году и поддержит переход индустрии на 12-дюймовые фотомаски.

Баннер новости 7025

Ключевые даты и технологии

В рамках объявления от 8 сентября 2026 года Samsung и ASML подтвердили углубление сотрудничества в области литографии экстремального ультрафиолета (EUV) с высокой числовой апертурой (High NA). Это критически важно для индустрии, так как High NA EUV позволяет печатать более мелкие элементы, что необходимо для продолжения масштабирования памяти и логики в эпоху ИИ.

Главная веха: Samsung планирует впервые использовать технологию High NA EUV в массовом производстве DRAM к 2028 году. Это позволит упростить технологические процессы и повысить эффективность производства, продлевая дорожную карту масштабирования DRAM.

Переход на 12-дюймовые фотомаски

Параллельно Samsung присоединится к отраслевой инициативе по внедрению 12-дюймовых фотомасок. Десятилетиями индустрия использовала 6-дюймовые маски, но для High NA EUV это становится ограничением. Переход на больший формат устранит проблемы «сшивания» (stitching constraints) и повысит производительность фабрик.

r>
Параметр Текущий стандарт (6-дюймовые маски) Новый стандарт (12-дюймовые маски)
Формат маски 6 дюймов 12 дюймов
Влияние на стоимость Выше из-за ограничений масштабируемости Снижение стоимости производства чипов
Применимость к High NA EUV Ограничена (проблемы со сшиванием) Полное раскрытие потенциала технологии
Цель внедрения Samsung Массовое производство DRAM к 2028 году

Зачем это нужно ИИ-индустрии

По словам Йон Хёна Джун (Young Hyun Jun) из Samsung, эра искусственного интеллекта трансформирует полупроводниковую отрасль, увеличивая потребность в инновациях по всей цепочке создания стоимости. Тесное сотрудничество с ASML позволяет Samsung сохранять лидерство как в памяти, так и в контрактном производстве (foundry), закладывая основу для будущих поколений ИИ-чипов.

Кристоф Фуке (Christophe Fouquet) из ASML отметил, что Samsung является одним из самых важных инновационных партнеров компании. В условиях, когда спрос на вычислительные мощности растет, совместная работа над передовыми методами производства становится ключевым фактором успеха.

Источник: TechPowerUp ↗