Intel 18A и High NA EUV: первый массовый выпуск чипов Panther Lake

Исторический прорыв в литографии

Компания ASML официально объявила о начале массового производства (High-Volume Manufacturing) на основе технологии High NA EUV. Ключевым партнером выступила Intel Foundry, которая использует эту передовую литографию для производства части процессоров Intel Core Ultra Series 3 (кодовое название Panther Lake), построенных на техпроцессе Intel 18A. Это знаменует переход от этапа тестирования к реальной коммерческой эксплуатации оборудования нового поколения.

Технические детали и оборудование

High NA EUV (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet) — это следующее поколение литографии, позволяющее создавать более мелкие и плотные структуры на кристалле по сравнению с традиционной EUV. Для производства Intel использует систему TWINSCAN EXE:5200B второго поколения. Эта машина, установленная в исследовательском центре Intel в Хиллсборо (Орегон), превосходит предшественника EXE:5000 по ключевым параметрам: производительности, точности совмещения слоев (overlay accuracy) и качеству источника света.

Значение для отрасли и AI

Внедрение High NA EUV критически важно для дальнейшего масштабирования полупроводников. По словам президента ASML Кристофа Фуке, повышенное разрешение и лучший контроль процесса ускорят развитие технологий искусственного интеллекта. Для Intel это шаг к достижению передовых показателей производительности и плотности транзисторов на будущих техпроцессах, сохраняя при этом гибкость производства.

Хронология и статус внедрения

Сотрудничество Intel и ASML в этой области началось еще в 2024 году, когда была завершена интеграция первой коммерческой системы High NA EUV. Intel Foundry стала первой компанией, установившей и прошедшей приемочные испытания оборудования EXE:5200B. Теперь, с запуском Panther Lake, Intel подтверждает готовность технологии к массовому рынку, собирая данные для оптимизации времени простоя и настройки систем.

Источник: TechPowerUp ↗