AiKraft
AI-новости23 октября 2026 г., 19:18 МСК🤖 Auto

Micron G11: 400+ слоев, 5400 MT/s и wafer-on-wafer к 2027 году

Micron анонсировала следующее поколение 3D NAND G11 с плотностью 42 Гбит/мм² и скоростью 5400 MT/s. Массовое производство стартует во второй половине 2027 года.

Баннер новости 10381

Прорыв в плотности и скорости

Компания Micron представила дорожную карту своего следующего поколения 3D NAND-памяти, получившей кодовое обозначение G11. Это решение позиционируется как самое передовое в индустрии на момент запуска. Ключевые характеристики G11 включают переход на архитектуру с более чем 400 слоями и внедрение технологии связывания пластин (wafer-on-wafer bonding). Ожидается, что плотность хранения данных удвоится по сравнению с текущим поколением G9 (N160), достигнув отметки 42 Гбит/мм² (против 21 Гбит/мм² у G9).

Технология Wafer-on-Wafer: почему это важно

Главным архитектурным нововведением G11 станет использование технологии wafer-on-wafer bonding. Ранее Micron использовала архитектуру CMOS-under-array, но новый подход позволяет изготавливать массив памяти и периферийные схемы (логические цепи, интерфейсы I/O) на разных пластинах с использованием оптимальных для каждой части процессов, а затем соединять их. Это дает гибкость в оптимизации производительности и емкости независимо друг от друга. Как отметил Скотт ДеБоер (Scott DeBoer), президент и главный технологический директор Micron, это решение становится экономически целесообразным именно сейчас.

Сравнение характеристик: G9 против G11

Переход на G11 обещает существенный скачок в производительности и энергоэффективности. Ниже приведено сравнение ключевых метрик текущего поколения и будущей архитектуры:

Параметр Micron G9 (N160) Micron G11 (Next-Gen)
Плотность бит 21 Гбит/мм² 42 Гбит/мм²
Скорость интерфейса I/O 3 600 MT/s 5 400 MT/s (+50%)
Энергопотребление на бит Базовый уровень Снижение более чем на 25%
Количество слоев ~176-180 (оценка) > 400

Масштабирование за пределы G11

Помимо увеличения количества слоев, Micron планирует продолжать масштабирование по осям X и Y (уменьшение размеров ячеек). Для этого разрабатываются новые материалы с высокой подвижностью носителей заряда и более плотные архитектуры ячеек. Это необходимо, так как простое наращивание слоев становится все более сложным с точки зрения производственных процессов. Точные технические детали и спецификации G11 будут раскрыты ближе к началу массового производства во второй половине 2027 года.

Источник: Tom's Hardware ↗