Историческое достижение в литографии
Компания Intel официально стала первым производителем, начавшим массовый выпуск логических чипов с использованием технологии High NA EUV (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet). Это подтверждено пресс-релизом ASML от 15 июля. Ключевым продуктом, использующим эту технологию, стали процессоры Intel Core Ultra Series 3 «Panther Lake» на архитектуре Intel 18A.
Важно отметить, что High NA EUV применяется не для всего чипа, а только для определенных слоев. Остальная часть производства остается на базе традиционной литографии. Такой гибридный подход позволяет снизить риски и оптимизировать затраты на этапе внедрения новой технологии.
Технические детали и метрики
Технология High NA EUV использует тот же 13.5-нанометровый экстремальный ультрафиолетовый свет, что и текущие сканеры, но увеличивает числовую апертуру (NA) объектива с 0.33 до 0.55. Это позволяет проецировать более мелкие и плотные паттерны схем на кремниевые пластины с высокой точностью, уменьшая необходимость в сложных многослойных техниках экспонирования (multi-patterning).
Ключевой особенностью внедрения стала «двойная квалификация» (dual-qualification). Слои, обработанные на новых сканерах ASML TWINSCAN EXE:5000/5200B, полностью совместимы с пластинами, изготовленными на существующих сканерах 0.33 NA. Это обеспечивает гибкость производства и позволяет использовать оба типа оборудования без потери качества или совместимости готовых изделий.
Сравнение параметров литографии
| Параметр | Стандартная EUV (0.33 NA) | High NA EUV (0.55 NA) |
|---|---|---|
| Числовая апертура (NA) | 0.33 | 0.55 |
| Разрешающая способность | Базовая для современных узлов | Выше на ~40%, позволяет печатать более мелкие элементы |
| Сложность многослойности | Высокая для самых тонких слоев | Снижена за счет лучшего контроля процесса |
| Статус внедрения | Массовое производствоМассовое производство | |
| Первый серийный продукт | Различные узлы (7 нм, 5 нм, 3 нм) | Intel 18A (Panther Lake) |
Оборудование и производственные мощности
Intel установила одну из первых в отрасли коммерческих систем High NA EUV TWINSCAN EXE:5000 в своем исследовательском центре в Хиллсборо (Орегон). Позже компания стала первым клиентом, прошедшим квалификацию второй генерации сканеров EXE:5200B, которые обеспечивают более высокую пропускную способность пластин и улучшенную точность совмещения слоев (overlay accuracy).
По словам Нанды Чандрасекхарана, исполнительного вице-президента Intel Foundry, квалификация процесса High NA на выбранных слоях Intel 18A позволяет существующему парку оборудования работать эффективнее, предоставляя гибкость для будущих технологических узлов.
Значение для рынка и будущих узлов
Запуск Panther Lake (Core Ultra Series 3) состоялся в январе 2026 года. Хотя сам продукт уже доступен покупателям, сообщение ASML касается потока пластин из фабрики в цепочку поставок. Это знаменует переход High NA EUV из стадии R&D в стадию коммерческого использования.
В долгосрочной перспективе эта технология критически важна для поддержания закона Мура. Следующим шагом станет использование High NA на узле Intel 14A, где технология будет применена к самым плотным слоям транзисторов. Это должно привести к увеличению плотности транзисторов и улучшению производительности, что особенно важно для растущих требований ИИ-нагрузок.
Источник: Tom's Hardware ↗