Технические характеристики прототипа
Китайский стартап Langdao Silex официально представил систему FlintNano LPP-OXXO — первый в стране источник света для EUV-литографии. В основе технологии лежит метод лазерно-генерируемой плазмы (LPP), аналогичный тому, что используется в сканерах ASML. Ключевые параметры системы, опубликованные разработчиком, включают:
- Выходная мощность EUV: более 15 Вт.
- Управляющий лазер: мощность 1 000 Вт с частотой повторения импульсов от 1 до 20 кГц.
- Коэффициент преобразования: превышает 2%.
- Автономность: способность непрерывной работы более 100 часов.
- Локализация: около 90% компонентов разработаны или произведены в Китае.
Прогресс или лишь начало пути?
Несмотря на впечатляющие цифры, эксперты отмечают, что создание источника света — это лишь один из этапов сборки полного литографического сканера. Для массового производства чипов необходимы также прецизионные отражательные оптические системы, механизмы позиционирования пластин и сложная интеграция тысяч компонентов. Langdao Silex признает, что прототип пока подходит только для тестирования пластин, и до готовности к серийному производству потребуется еще 3–5 лет разработки.
Контекст санкций и текущее состояние отрасли
Нидерланды под давлением США с 2019 года запрещают экспорт EUV-сканеров в Китай, поэтому компания ASML никогда не поставляла такие установки китайским производителям. В то же время поставки DUV-оборудования продолжаются, хотя и с ограничениями. Китайские компании, такие как Shanghai Yuliangsheng Technology, уже работают над созданием эксимерных ArF-лазеров для DUV-литографии (193 нм), но EUV остается технологией будущего.
Сравнение с текущими решениями
| Параметр | Langdao Silex (FlintNano) | Стандарт DUV (ArF) |
|---|---|---|
| Тип излучения | Экстремальный ультрафиолет (EUV) | Глубокий ультрафиолет (DUV) |
| Длина волны | 13.5 нм (стандарт EUV) | 193 нм |
| Технология генерации | Лазерно-генерируемая плазма (LPP) | Эксимерный лазер |
| Готовность к производству | Прототип (тестирование пластин) | Массовое производство |
Развитие отечественной EUV-технологии критически важно для Китая в контексте стремления к полной независимости цепочек поставок полупроводников. Однако путь от лабораторного прототипа до промышленного сканера, способного конкурировать с решениями ASML, остается долгим и сложным.
Источник: TechPowerUp ↗