Старт локального производства
По данным источников, близких к изданию The Information, китайская компания из Шанхая начала ограниченную серию иммерсионных DUV-литографических установок. В этом году планируется поставить всего 5 систем, однако к 2027 году объем производства планируется довести до 20 машин. Это первый значимый шаг Пекина к созданию собственной цепочки поставок критически важного оборудования для полупроводниковой индустрии.
Первыми клиентами станут ключевые игроки китайского рынка: SMIC, CXMT и Hua Hong. Эти предприятия интегрируют новые машины в свои производственные процессы, что позволит им продолжить выпуск чипов без прямых поставок от ASML.
Технологическая суть и масштаб
Иммерсионная DUV-литография использует эксимерный лазер на основе аргон-фторида (ArF) для генерации света с длиной волны 193 нм. Ключевая особенность технологии — использование слоя ультрачистой воды между последней линзой и кремниевой пластиной, что позволяет достичь более высокого разрешения. Несмотря на кажущуюся простоту принципа, создание таких машин требует высочайшей точности, которой годами владела только ASML.
Для понимания масштаба: в прошлом году ASML отгрузила 131 иммерсионную DUV-машину. Китайский старт в 5 единиц выглядит скромно, но символичен. Примечательно, что хотя большинство компонентов теперь производится в Китае, некоторые ключевые детали все еще импортируются из Японии.
Сравнение с решениями ASML
Главный вопрос к новой китайской технологии — ее производительность и точность. Флагманская установка ASML TWINSCAN NXT:2150i обрабатывает более 310 пластин в час и позволяет получать узлы 7 нм, а с использованием многократного паттернинга (multi-patterning) — даже 5 нм. Китайским производителям предстоит доказать, что их машины способны обеспечить аналогичные показатели.
| Параметр | ASML (NXT:2150i) | Китайская DUV (оценка) |
|---|---|---|
| Производительность | >310 пластин/час | Не раскрыто |
| Минимальный узел | 7 нм (до 5 нм с SAQP) | Не раскрыто |
| Годовые поставки (2025) | 131 единица | ~5 единиц (2026) |
| Целевые клиенты | Глобальные | SMIC, CXMT, Hua Hong |
Значение для SMIC и CXMT
Для CXMT, производящего DRAM, критически важна не самая передовая нодa, а стабильность процессов на зрелых узлах (около 10 нм). Однако для SMIC ситуация сложнее. Компания уже заявляла о производстве 5-нм чипов на узле N+3 без использования EUV-технологий, применяя технику самосогласованного четверного паттернинга (SAQP). Новая DUV-машина должна стать основой для масштабирования этого процесса, если ее точность окажется достаточной для таких сложных операций.
Этот шаг знаменует конец абсолютной монополии ASML в сегменте DUV-литографии, хотя путь к полному технологическому паритету еще долог.
Источник: TechPowerUp ↗